IBM razvija 30nm litografiju

IBM je najavio novu tehnologiju kojom će se moći napraviti 30nm integrirani sklopovi. Razvili su 193nm duboku-ultraljubičastu optičku litografiju (DUV litography) kojom će se “printati” integrirani krugovi širine 29.9nm. Za usporedbu Intel danas koristi 65nm proces, a AMD je još na 90nm. IBM-ov napor u daljnjem razvijanju DUV litografije će uštedjeti industriji velike količine novaca i dati još oko 7 godina prostora razvoja procesora na ovoj tehnologiji. Alternativni pravci proizvodnje procesora su znatno skuplji, no razvijaju se i u upotrebu će ući nakon što se u potpunosti iscrpe mogućnosti DUV tehnologije.