Intel na 32nm 2009. godine

Intel je na nedavno održanoj A.G. Edwards konferenciji izjavio kako će se minijaturizacija proizvodnog procesa nastaviti i kako će 2009. godine proizvoditi procesore u 32nm procesu. Zbog izuzetno sićušne strukture tranzistora u 32nm procesu koristiti će se alati “ekstremne ultraljubčaste litografije”. Ideja ove litografije je mogućnost crtanja znatno tanjih el. krugova po waferima nego što je to danas. Prošle godine je Intel uplatio 20 milijuna dolara frimi Cymer za razvoj EUV litografije, koja je specijalist za izvore “duboke” ultraljubičaste svjetlosti, tako da je proizvodnja planirana za 2009. godinu vrlo izgledna.