Intel predstavio novi proizvodni proces
|
Intel je danas predstavio novi 45-nanometarski proizvodni proces koji je baziran na tehnologiji najavljenoj još prije četiri godine – high-k materijalu u kombinaciji s metalnom elektrodom na vratnicama tranzistora. Prema riječima Gordona Moorea, čovjeka prema kojem je nazvan poznati Mooreov zakon o razvoju procesora, implementacija high-k materijala u kombinaciji s metalnim elektrodama je najveći korak naprijed u tehnologiji proizvodnje procesora u zadnjih 40 godina odnosno od kraja 60-ih godina prošlog stoljeća. Intel novi proizvodni proces u usporedbi s procesom koji firma trenutno rabi (65 nanometara) omogućava više od dva puta veću gustoću tranzistora, oko 30-postotno smanjenje energije potrebne za promjenu stanja tranzistora (0 ili 1), više od 20 posto veću brzinu promjene stanja (ili pet puta manju parazitsku struju u kanalu između ulaza i izlaza tranzistora uz zadržavanje jednakih performansi) te više od deset puta manju parazitsku struju između kontrolne elektrode i samog kanala u klasičnom MOSFET-u koja se stvara zbog efekta kvantnog tuneliranja. Proces će se komercijalno početi koristiti u drugoj polovici ove godine i to s novom generacijom Core 2 procesora kodnog imena Penryn koji će donijeti arhitekturalna povećanja, veći takt, veću količinu cachea te SSE4 instrukcije. Što se tiče proizvodnih kapaciteta, Intel planira vrlo brzi prelazak na 45-nanometarski proces. U drugoj polovici ove godine planirana je proizvodnja u postrojenjima D1D u Oregonu te Fab 32 u Arizoni, dok će iz postrojenja Fab 28 u Izraelu 45-nanometarski procesori početi izlaziti u prvoj polovici 2008. |
